这一过程，目前只能通过光刻，才能最有效的实现。
所以，光刻的工艺水平，往往直接决定了芯片的制程水平和性能水平。
而光刻的原理，实际上非常简单。
在硅片表面覆盖一层具有高度光敏感性的光刻胶，再用光线透过掩模照射在硅片表面。
被光线照射到的光刻胶，会发生反应。
此后，再用特定的溶剂洗去被照射或未被照射的光刻胶，就实现了电路图从掩模到硅片的转移。
这和中国古代的印刷术，实际上有一些相似之处，但光刻技术却比印刷术难了千万倍。
一般的光刻步骤，有气相成底膜、旋转涂胶、软烘、曝光、显影、坚膜。
接着，就是进行检测，主要是显影检测，让合规的硅片进入后续的蚀刻流程。
所谓蚀刻，便是通过化学或物理的方法，有选择地从硅片表面，除去不需要材料的过程。
完成之后，就能通过特定溶剂，洗去硅片表面残余的光刻胶了。
当然，这是最简易的光刻步骤，在实际生产制造中，比这复杂了上百倍。
蔡晋从开始光刻，到最后洗去残余的光刻胶，几个步骤，就足足花了三个多小时。
当然，这里面也是有他刚刚接触光刻机，操作不顺手的因素。
看着这生产出来的300nm芯片，蔡晋脸上露出了笑容。
虽然是低端芯片，但是这是好的开始。
他的目标，又不是这些300nm芯片，切确地说，不是为了芯片。
而是光刻机。
通过不断使用光刻机，去升级光刻机，这才是他的目的。
解决了制造机器，那么用机器来生产，就完全不是问题了。
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