“我们南山设备下一步除了推进28纳米工艺的成熟度之外，就是研发14纳米的生产工艺设备。”
“如果蚀刻机能够进一步的做到比14纳米更加先进，那么就算是初步完成了你说的目标。”
成本方面，曹阳没有说任何内容。
因为只要华夏厂家能够生产的设备，成本肯定是比国际设备巨头要便宜一大截的。
现在购买一台蚀刻机要5000万的话，那么中微半导体肯定是2500万可以搞定的。
“28纳米的蚀刻机，我们现在就已经研发出来了，最晚在今年内就具备量产的水平，明年上半年就可以正式的交付给南山半导体使用。”
“与此同时，我准备跳过14纳米的蚀刻机技术，直接研发7纳米的蚀刻机。”
“到时候我们的蚀刻机在今后十年内都不会过时，只需要进行一些技术升级和降成本的活动就行了。”
尹志强对蚀刻机的发展显然是非常有信心的。
“蚀刻机的生产难度虽然不是所有设备中最难的，但也是技术含量很高的，直接跳过14纳米的话，会不会太有挑战性了？”
曹阳虽然希望尹志强能够轻松的完成自己说的方案。
不过还是忍不住多关心了几句。
“曹总，要理解这个方案的可能性，就要涉及到蚀刻技术的工作原理了。”
“我先跟你好好唠叨一下。”
尹志强显然是准备展现一下自己的专业水平，让曹阳相信中微半导体可以搞定更加先进的蚀刻机。
“刻蚀技术可以分为两类，一是使用液态化学品的湿法刻蚀，让硅片在强酸强碱的泡澡淋浴中定量减肥。”
“二是使用气体等离子体的干法刻蚀，让硅片在化学气体的离子轰击下局部瘦身。”
“其中湿法刻蚀的技能早就被人类点亮，比如中世纪的欧洲人，会用酸性溶液，在金属盔甲上蚀刻雕花。”
“明代的《格古要论》中也有记载：凡刀剑器，打磨光净，用金丝矾矾之，其花纹则见。”
“明朝人说的金丝矾就是一种硫酸盐，因此当历史进入集成电路的时代，工程师们首先想到的也是利用各种酸碱的腐蚀性，来大规模地刻出芯片，制程工艺中的刻蚀之名，由此产生。”
“刻蚀中有三个关键指标：刻蚀速率，选择比和方向性。”
“其中刻蚀速率指的是物质被溶解的速度，通常用每分钟损失多少微米的厚度来计量。”
“在芯片制程中，一个部位的刻蚀深度，通常是用刻蚀时长来控制的，因此保证一个精确且恒定的刻蚀速率非常重要，而这对于刻蚀液的纯度，配比，和浓度变化的要求很高。”
“基于化学反应的湿法刻蚀，只能尽量减少横向刻蚀，完全的各向异性它做不到。”
“在芯片制程的早期，器件结构比较粗糙，线宽间距也够大，刻蚀方向性差一点，问题还不大。”
“但随着制程进入次微米级，湿法刻蚀就跟不上芯片的精度要求了，逻辑电路自然不用说，关键层需要纳米级的精密刻蚀，即便像dram之类相对粗糙的存储芯片，要刻出里面又窄又深的电容沟槽，也需要方向感极强的雕刻方法，这就是干法刻蚀。”
“湿法用的是液体，干法用的则是气体，芯片厂每天消耗很多特种气体，其中很大一部分就用于刻蚀。”
“这些气体在精确配比后，被通入反应腔内，再用电容或电感耦合的方式，让气体完全或部分电离，形成等离子体或离子束，经过电场加速，射向硅片进行刻蚀，这是一种兼具物理与化学属性的雕刻方式。”
“主流的芯片制程中，超过90%的芯片刻蚀都是干法，因为它的方向性好，气体配比和射频电源也能实现更精密的调控。”
“至于缺点，抛开技术的复杂度不谈，主要有两个，一个是贵，一个是慢。”
“一台进口刻蚀机的价格，数百万美元，那比光刻机是便宜多了，但是不同介质的刻蚀，需要买不同的刻蚀机。”
“而且工艺中，刻蚀的时长远超光刻，毕竟人家是用光来刻嘛。”
“因此产线上一台光刻机，要配多台刻蚀机，按照设备总成本来计算，两者的开销差不多。”
“相比光刻机对光线的精确控制，蚀刻机更多的是需要对气体进行精确控制，两者的精度要求虽然差不多，但是生产难度却是完全不同的。”
“光刻机里头，光学系统的加工难度是非常高的，特别是里面的镜片，国内还真是很难找到符合要求的厂家。”
“你找蔡司购买的话，人家不一定会卖给你跟阿斯麦一个水平的产品。”
“但是蚀刻机的话，我们不需要这么复杂的东西，只要设备设计的足够精妙，零件的加工精度可以符合要求，就有希望生产出能够加工7纳米的蚀刻机出来。”
尹志强解释了一大顿，曹阳听懂了一部分。
不过他不担心！
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