三人来到张江开发区，走进SMEE研发大楼，来到一间硕大的车间。
好家伙。
偌大车间，一台巨大的设备占据了大部分空间。
看着线路及零部件密集程度，令人头皮发麻。
“老板，这就是我们研发的DuvArfi光刻机，不出意外，应该是目前国内最高水准。”何融明用略带骄傲的口吻介绍道：
“从双工作台、光源系统、曝光系统到物镜系统、光栅系统……任何一个零部件都是国产自主。”
换作八年前，何融明想都不敢想。
这就是资本得当的魔力。
“即便只是DUV光刻机，也是全球唯一一个能独立制造的国家。”梁青松说。
他的神情与有荣焉。
“售价准备多少？”常乐问。
“我们计划3000万美元一台。”何融明说。
嗯，ASML的DUV光刻机型号不同，价格不同。
DUV价格区间为2000万欧元至6500欧元。
其中，与国产DUV相类似的，售价为6500万美元。
“这是很有竞争力的价格。”常乐点头。
“对，因为全线国产自主，我们的成本可以压到很低。”何融明说。
片刻后，车间内来了很多人。
这些人都是零部件企业和科研机构负责人。
何融明一一向常乐介绍。
常乐一一和这些人握手。
这些企业中，有华卓精科，他们提供双工件台；
有科益虹源，他们提供光源；
有国科精密，提供曝光系统；
有启尔机电，提供浸没系统；
有国望光学，提供物镜；
有沪光所，提供光栅系统；
还有南大光电，他们提供光刻胶；
华特气体提供光刻气体；
华润膜提供光掩膜板；
东方晶源提供缺陷检测系统；
以及，芯源微提供涂胶显影。
正是这些企业的大力研发，才能确保成功研发Duv浸没式光刻机。
Smee和ASML一样，都是系统组合商。
核心技术聚焦设备组合，而不是设备研发。
介绍完且相互认识之后，众人一同来到会议室。
依次坐定，常乐说：
“首先，要感谢各位八年来的不懈努力和辛勤付出。”
“因为你们的砥砺奋进、守望相助，国产光刻机才能在如此短的时间内，实现Krf光刻到ArFi光刻的三级跳，取得了历史性突破。”
“但是，现在还不是我们庆功的时候。”
“新的挑战就在眼前，站在技术迭代的关键十字路口，下一步我们该怎么走，还需要再确定、再出发。”
掌声！
常乐说完这几句话，问何融明：“何总，目前Asml那边EUV光刻机什么进展？”
“据我们所知，应该已经完成原型机研发，但离真正上市商用，还需要时间，具体时间不确定。”何融明说。
“那这么说，我们和Asml的差距不大了？”常乐继续问。
“嗯……单单产品方面看，差距确实不大，甚至我们还更有优势。”何融明解释道：
“但是从技术和产品积累看，我们要走的路还有很长。”
“因为他们研发Euv，走了22年，必然遇到我们想都想不到的问题。这些问题，接下来我们都会遇到。”
“嗯。”常乐点头，继续问：“何总，从Duv跨越到Euv难点在哪里？”
“难点很多，光源、物镜、工作台等等都是非常关键的环节点。”何融明说：
“老板，要不这样，让在座的企业负责人介绍一下？术业有专攻，他们更专业，也更容易解释清楚。”
“行。”常乐点头。
于是，启尔电机负责人先发言：
“常总，何总，我先说说吧。”
“好。”
“首先感谢常总、何总这些年，对启尔电机的关心和支持，没有SMEE的资金支持和帮助，启尔电机不可能走到上市前夜。”
“什么时候上市？”常乐问。
“12月。”
“那我们之前买的那些股票要值钱了。”
“哈哈……”
短暂笑过，启尔电机负责人开始正式介绍情况：
“启尔电机主要为DuvArFi光刻提供浸没系统。”
“通过浸没系统和光的折线效应，实现了193纳米到134纳米的等效波长，Arf光刻推进到Arfi光刻才成为可能。”
浸没系统，就是将镜片与硅片之间的空间，浸入特殊液体中。
由于液体折射率大于1，能够使193纳米波长光源缩短至134纳米，从而实现更高分辨率。
也顺带，将光刻工艺节点从45纳米推进到14纳米、10纳米。
“但是……”该负责人话锋一转：
“同样的方法，157纳米波光光源叠加浸入技术后，无法降低波长。”
“所以，进入EUV阶段，就需要更为复杂的技术和手段来实现极紫外光源。”
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