机场。
何融明、梁青松接到常乐，三人坐车前往SMEE。
电话里没有明说，在车上，常乐将情况告诉两人。
何融明感叹：“终于还是来了。”
“有问题没？”常乐问。
“Arfi光刻机已经交付给华红半导体，最小分辨率为38纳米，可以实现45纳米、28纳米和22纳米制程，梁总说，极限下最小可以实现7纳米工艺制程。”何融明说。
“对，我们和菊厂一直保持对接，菊厂也派出专门团队常驻我们公司。”梁青松点头解释：
“通过DUV，可以采取重复曝光技术实现7nm制程，理论上可行，不过良品率极低，成本也很高，现在在探索。”
多重曝光技术对制程工艺技术要求很高。
每多曝光一次就需要多一套复杂工序，这是无奈选择。
“目前，华红最小制程能到多少纳米？”常乐问。
“已经到22纳米，良率97%，可以不限量接单。”梁青松说。
22纳米制程是2012年主流水准，菊厂的mate7就是采用22纳米工艺。
进入2017年，制程工艺已经发展到10纳米。
英特尔倒在这个节点。
联电倒得更早一点，倒在14纳米节点上。
也就说，进入10纳米，全球玩家只剩下两家，三星和Tsmc。
华红半导体与两者的时间差距是5年。
8年前，差距是30年以上；
8年后，时间差是5年。
“已经到22纳米了？进步很快。”常乐说。
常乐有段时间没有关注华红半导体了。
“老板，其实14纳米也能做，只是良率很低，不足50%。”梁青松说。
“这已经超出我的预期，继续加油。”常乐说。
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