他们认为在镜头与硅片间加水会产生气泡并带来污染风险，这可能会破坏芯片生产中严苛的无尘环境，大大降低产品的良品率。
在他们看来，只有通过深入研究光源技术、降低光源波长才是正道。
面对拒绝，林苯坚像一位执着的工匠，不断雕琢改良自己的方案，一次又一次地亲自上门，展示他的技术实力。
然而，这些努力并未赢得樱花国和鹰国知名半导体公司的青睐。
面对这样的困境，林本坚不得不寻找新的合作伙伴。
他瞄准了当时尚未崭露头角的ASML公司。
那时的ASML公司规模很小，就像一间小型作坊，整个公司仅有几十名员工。
在规模和影响力上，ASML远远无法与呢康、佳螚等光刻机巨头相提并论。
然而，正是这家看似不起眼的公司，却独具慧眼地认可了林本坚的方案。
他们看到了林本坚的潜力，决定投入资金支持他的研究。
林本坚不负众望，在ASML公司的鼎力支持下，仅耗时一年，便成功研发出了浸润式光刻机，其精度达到了前所未有的高度——132nm！
这一成就如同夜空中璀璨的烟花，瞬间点亮了ASML的前程。
一夜之间，ASML从默默无闻的小公司一跃成为行业的翘楚，打破了呢康、佳螚的垄断格局。
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